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chao wei xi jia gong yu deng li zi ti ji shu
Author(s): 
Pages: 51-57
Year: Issue:  4
Journal: Optoelectronic Technology

Keyword:  等离子体技术平板型中性粒子微细加工物理反应自偏压随机运动辉光放电微细化馈电方式;
Abstract: 等离子体刻蚀是基于辉光放电低温低电离等离子体中的激活中性粒子(基团)与固体表面产生化学反应。由于原子团在等离子体中作随机运动,所以成为各向同性刻蚀,难以得出高精度的微细图形。在用平行平板型刻蚀装置在低气压下工作的情况下,反应性离子被电极表面附近形成的自偏压所加速,产生物理反应与化学反应,可以产生各向异性和选择性刻蚀。用这种方法,可能形成高精度的微细图形。
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