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pvd biao mian gong cheng ji shu
Author(s): 
Pages: 59-60
Year: Issue:  4
Journal: Heat Treatment

Abstract: PVD(Physical Vapor Deposition)物理气相沉积是一种真空条件下采用物理方法,将固体或液体材料表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术.主要方法包括真空蒸镀(加热方式有电阻、电子束、激光、离子束和高频感应等加热)、溅射沉积(2-3-4极、磁控、射频磁控和离子团束等溅射沉积)、离子镀(电阻加热离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀、磁控溅射离子镀、离子束辅助沉积、反应离子镀和离子团束沉积等).PVD不仅可以沉积金属膜、合金膜,还可以沉积化合物、陶瓷、半导体和聚合物膜等,是具有广泛应用前景的新材料制造技术.制备的超硬薄膜不但具有高硬度,而且超薄、耐高温、无污染和几乎零排放,适合于工具、零件和摩擦磨损件表面的耐磨损、抗氧化、防腐蚀和自润滑等特殊性能要求,是现代表面工程技术中很有发展前途和应用价值的一种技术.
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